Máy phân tích thành phần nguyên tố Rigaku NEX LS

Tổng quan:

Máy phân tích thành phần kim loại Rigaku NEX LS là thiết bị phân tích huỳnh quang tia X phân tán năng lượng quá trình (EDXRF).

Máy phân tích Độ dày/thành phần lớp phủ của quá trình quét theo thời gian thực, trực tuyến.

RIGAKU NEX LS với công nghệ huỳnh quang tia X phân tán năng lượng thế hệ thứ ba (EDXRF) tiên tiến, Rigaku NEX LS đại diện cho sự phát triển tiếp theo của việc quét các máy phân tích lớp phủ quy trình đa nguyên tố cho các ứng dụng dạng cuộn hoặc cuộn.

Tính năng

Huỳnh quang tia X phân tán năng lượng (EDXRF)

Để mang lại hiệu suất phân tích vượt trội và độ tin cậy cao, cụm đầu đo EDXRF được lấy từ thiết bị để bàn có độ phân giải cao Dòng Rigaku NEX đã được thiết lập. Với công nghệ đã được chứng minh, Rigaku NEX LS cung cấp các phân tích nhanh chóng, không phá hủy, đa nguyên tố — về trọng lượng lớp phủ, độ dày lớp phủ và/hoặc thành phần — đối với các nguyên tố từ nhôm (₁₃Al) đến uranium (₉₂U).

Độ dày và thành phần lớp phủ

Rigaku NEX LS được thiết kế đặc biệt để phục vụ các ứng dụng dạng cuộn và dạng cuộn, với khả năng thực hiện thành phần đa thành phần, trọng lượng lớp phủ hoặc độ dày lớp phủ. Đầu đo được gắn trên một dầm cứng và được trang bị cơ cấu di chuyển ngang tuyến tính được đặt trên một con lăn sao cho khoảng cách từ đầu đến bề mặt không đổi. Khi cần thiết, thành phần nguyên tố của lớp phủ được đo trực tiếp. Ngược lại, trọng lượng lớp phủ (hoặc độ dày lớp phủ) có thể được đo trực tiếp (trong đó tốc độ đếm của một phần tử tỷ lệ thuận với độ dày) hoặc gián tiếp bằng cách đo độ suy giảm của một số phần tử nền (trong đó tốc độ đếm có tương quan nghịch với độ dày).

Lớp phủ giải phóng silicone

Máy quang phổ EDXRF để bàn từ lâu đã là công nghệ quen thuộc cho lớp phủ tách, bộ chuyển đổi, nhà sản xuất nhựa tạo hình chân không và các ngành công nghiệp khác sử dụng dầu silicon làm lớp chắn, lớp phủ tách hoặc chất làm đặc. Quét thời gian thực, để có dung sai kiểm soát quy trình chặt chẽ hơn, đưa công nghệ EDXRF để phân tích lớp phủ silicon lên một tầm cao mới. Lớp phủ silicon được áp dụng cho chất nền nhựa và giấy để thay đổi đặc tính giải phóng của sản phẩm (như nhãn) hoặc bao bì. Nếu sử dụng quá ít silicone hoặc nếu có những vùng trên màng bị thiếu lớp phủ silicon, thì đặc tính giải phóng chất kết dính sẽ bị ảnh hưởng bất lợi trong các ứng dụng giải phóng hoặc các đặc tính làm kín của nhựa tạo hình chân không sẽ bị tổn hại khiến sản phẩm bị loại bỏ hoặc gián đoạn trong quá trình sử dụng. sản xuất và các quá trình tiếp theo khác. Nếu sử dụng quá nhiều silicone, giá thành của cuộn sản xuất sẽ tăng lên, làm giảm lợi nhuận và trong một số trường hợp ảnh hưởng đến việc chấp nhận và hiệu suất của sản phẩm cuối cùng.

Đặc trưng

• Chất phủ silicone
• Bộ chuyển đổi
  • Silicone trên nhựa hoặc giấy
• Nhựa hình thành chân không:
  • Làm tan lớp phủ silicone
• Nhựa đặc biệt
• Tuân thủ RoHS
• Lớp phủ chuyển đổi
• Nhựa kim loại
• Lớp phủ trên cùng trên cuộn kim loại
• Chất chống cháy trên vải

Video về NEX LS

CÔNG TY TNHH THIẾT BỊ CÔNG NGHỆ NĂNG LỰC là Đại lý ủy quyền chính thức của RIGAKU tại Việt Nam trong việc phân phối các Thiết bị phân tích thành phần nguyên tố chính hãng tại Việt Nam, có Giấy chứng nhận ủy quyền của hãng RIGAKU cấp.